湿法刻蚀机技术将声波能量均匀分布在基板表面，提高分布能量以支持理想的清洗，并确保样品的损伤阈值在范围内。该系统具有重复性高、均匀性好、Z级先进兆声清洗、兆声辅助...
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刻蚀机也是芯片制造的重要组成部分，很多时候我们会看到一些消息说我国光刻机突破5nm和3nm实现超车。事实上，情况并非如此。这种说法是错误的，而且完全令人困惑。为什么这...
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刻蚀机和平版印刷机的区别在于，平版印刷机打印出图案，然后刻蚀机根据打印出的图案蚀刻出有图案的(或未有图案的)部分，剩下的部分留下。蚀刻比光刻更容易。如果把硅晶上的施工...
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匀胶机的基本原理是在高速旋转基板中，利用离心力使基板上的橡胶液均匀地涂在基板上，膜厚度与粘度之间的粘度系数、旋转、旋转时间相关，一般速度在2000rpm以上，匀胶机速度...
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