刻蚀机也是芯片制造的重要组成部分，很多时候我们会看到一些消息说我国光刻机突破5nm和3nm实现超车。事实上，情况并非如此。这种说法是错误的，而且完全令人困惑。为什么这么说，因为除了光刻机，还有芯片制造工艺。其中的重要设备是刻蚀机。

　　光刻机学名又称：掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。芯片制造工艺的核心是将掩模上设计的电路图案转移到硅片表面，并光刻机是完成这一步不可或缺的工具。

　　“光刻”是指将预先制作好的光刻胶覆盖在覆盖有光刻胶的晶圆(或硅片)上，然后通过光刻胶对晶圆照射一定时间的紫外线。其原理是利用紫外线使部分光刻胶变质易腐蚀。

　　“刻蚀”是指光刻后，用刻蚀液(正胶)将光刻胶的劣化部分刻蚀掉，晶片表面显示出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种蚀刻剂蚀刻晶片以形成半导体器件及其电路。刻蚀有两种，一种是干法刻蚀，另一种是湿法刻蚀。

　　如果把做芯片比作盖房子，那么光刻机的作用就是在地上标出房子的结构。刻蚀机是光刻完成后出现的设备，也是光刻完成后重要的设备之一。刻蚀机的主要作用是根据光刻机标记的线条来搭建基础设施，去掉不需要的部分，只留下光刻过程中标记的线条。

　　在芯片制造领域，光刻机是前端，刻蚀机是后端。光刻机的作用是在覆盖有光刻胶的硅片上画出电路图，而刻蚀机的作用是根据光刻机画出的电路图对硅片上其他不需要的光刻胶进行刻蚀去除。完成电路图。雕刻被转移到晶片表面。一个是设计者，另一个是执行者。在整个芯片生产过程中，需要重复使用这两个设备，直到将完整的电路图蚀刻到硅片上。

　　国产刻蚀机为我国半导体领域树立了良好的榜样。我国微半导体研发出国际主流5nm刻蚀机并获得台积电认证后，美国将刻蚀机从出口限制清单移至中国。这充分说明了一件事，只要你有核心技能，对手就无法再压制你。

　　由此可以理解，光刻机是一种特殊的相机，而刻蚀机，顾名思义就是蚀刻。这两个过程之一是绘图，另一个是雕刻。刻蚀机的技术含量远低于光刻机。