光阻涂布

光阻涂布

全自动掩模光刻机

产品型号:

产品联络人

许先生
0086-13773120108
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  • 规格
  • 描述
应用范围: 半导体(Semiconductor)、微机电(MEMS)
被动组件(Passive Component)、触控面板(Touch Panel)
显示器(Display Panel)、发光二极管(LED)
基本规格: Exposure light source: 3.5KW、5KW、8KW、10KW
Substrate Size 2”~8”、8”~12”
Uniformity: ≦ 5%
Alignment Accuracy: ± 1um
Throughput: ≧90 wph

采用专利对位与光学系统,提供生产单位所需要的低成本、高效率设备。适用工业4.0大数据收集。

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