光阻涂布
| 设备概要： | 适用尺寸：2"-12" Wafer基材。 |
|---|---|
| 基本规格： | |
| 外观材质： | PP板组合焊接而成，可以耐腐蚀。 |
| 操作盆罩： | SUS制，圆盆型设计。 |
| 盆罩掀盖： | 分离式透明PVC上盖。 |
| 吸盘规格： | 一组铝制吸盘精密研模阳极保护。 |
| 操作、入料方式： | 手动直接输入、手动给料。 |
| 液体种类： | 光阻剂、溶剂。 |
| 马达： | AC Servo Motor（转速：10-6000 RPM） |
| 含真空泵浦（附PP防尘外罩） | |
| 真空渗液保护： | 有，间接式防护设计。 |
| 真空简检知： | 有（可数位设计真空值 Kpa 下限保护）。 |
| 保护制御： | 有一本装置的全部状态，异常检出。 |
| 电控系统： | |
| 软体： | PLC。 |
| 操控方式： | 彩色触控人机系统，主轴转速曲线图。 |
| 配方模组与段数设定： | 100组配方，每配方30段段数。 |
专为实验室及研发人员而开发的晶圆半自动上光阻机，可处理2”~ 12”各式各样的基材，且由于体积尺寸小，因此仅需要使用最小的空间。
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