光阻涂布

光阻涂布

半自动掩模光刻机

产品型号:

产品联络人

许先生
0086-13773120108
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  • 规格
  • 描述
应用范围: *半导体(Semiconductor)
*微机电(MEMS)
*被动组件(Passive Component)
*触控面板(Touch Panel)
*显示器(Display Panel)
*发光二极管(LED)
规格: *Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW
*Substrate Size 2”~8”、8”~12”
*Uniformity: ≦5%
*Alignment Accuracy: +- 1um
*Throughput:≧60 wph

采用专利对位与光学系统,提供研发单位和使用最新光刻工艺所需要的弹性设备。适用工业4.0大数据收集。

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