光阻涂布

光阻涂布

简易型光刻机

产品型号:

产品联络人

许先生
0086-13773120108
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  • 规格
  • 描述
应用范围: *半导体(Semiconductor)
*微机电(MEMS)
*被动组件(Passive Component)
*触控面板(Touch Panel)
*显示器(Display Panel)
*发光二极管(LED)
规格: *Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW
*Substrate Size 2”、4”、6”、8”、10”、12”-up to 24”
*Uniformity: > ±3% and <±5%
*Alignment Accuracy: ± 1um
*Throughput:≧65 wph
优点: 专利平整校正机构/高精度、人性化操作界面、依制程需求模组客制化。
可选配双面对准制程: Back Side IR(红外光对准)/ Bacj Side Visible(背面CCD/显微镜对准)。

专利平整校正机构/高精度/人性化操作接口,可依制程需求模块客制化。另可选配双面对准制程:红外光对准与背面CCD/显微镜对准。

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