等离子去胶机停止去胶操作非常的简单，并且效率高，去胶后的外表洁净光亮、没有任何的划痕、本钱低、环保。电介质等离子体去胶机在停止刻蚀时，普通会被应用在电容耦合等离子体平行板反响器上。


　　在平行板反响器中，反响离子刻蚀腔体所采用的是阴极面积小，阳极面积大的不对称设计，而需求被刻蚀的物件则是被放置到面积较小的电极之上。在停止刻蚀操作时，其射频电源所产生的热运动会使质量小、运动速度快的带负电自在电子很快抵达阴极。


　　而正离子则是由于质量大、速度慢而很难在同一时辰到达阴极，从而就会在阴极左近构成带负电的鞘层，正离子在这个鞘层的加速之下，就会垂直的轰击在硅片的外表，从而使得外表的化学反响加快，并且会使得反响生成物脱离，因而其刻蚀速度极快，离子的轰击也会使各向异性刻蚀得以完成。


　　等离子去胶操作办法：将待去胶片插入石英舟并平行气流方向，推入真空室两电极间，抽真空到1.3Pa,通入恰当氧气，坚持真空室压力在1.3-13Pa,加高频功率，在电极间发作淡紫色辉光放电，经过调理功率、流量等技术参数，可得不一样去胶速率，当胶膜去净时，辉光不见。