刻蚀机的中心在于这个真空的反响腔室。中间的卡盘运用静电吸附着晶圆，上方通入卤族气体、氟基类气体等。在电极片发生的高频电场中，气体分子会被电离，发生带负电荷的电子和带正电荷的离子。

　　这团混合物被称为物质在固体、液体、气体之外的第四种状态--等离子体。事实上，你所见到的闪电、极光也都是等离子体。而在刻蚀机里，这些高能的等离子体会轰击在晶圆外表，将原子直接打出，或发生化学反响与晶圆上的资料构成新的化合物挥发，完成刻蚀。


　　这个进程中有两个难点，一个是苛刻的均匀性操控，要知道，在 12 英寸的晶圆上，往往要一起加工近百亿个图形，全体的刻蚀有必要尽可能同步，刻蚀精度要操控在几个原子层的领域。而这就得考虑用于激发等离子体发生的电场是否均匀，经过调整线圈的电压等参数，构成更均匀的电场。


　　此外，还得经过精密的流量计，从分子级别操控刻蚀气体在进气喷嘴不同位置的流量、散布，进而操控等离子体的密度。承载晶圆的静电卡盘还需在内部分区设置加热器，对晶圆多个区域进行温度操控，以提高刻蚀的均匀性。