等离子刻蚀机，又名等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子外表处理仪、等离子清洗体系等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种方式，其原理是暴露在电子区域的气体构成等离子体。

　　由此发生的电离气体和开释高能电子组成的气体，从而构成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加快时，会开释满足的力气与外表驱赶力紧紧粘合资料或蚀刻外表。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的状况。


　　进行干式蚀刻工艺的设备包括反响室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽暇的反响室。气体被导入并与等离子体进行交流。等离子体在工件外表发生反响，反响的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反响性等离子工艺。


　　近期的开展是在反响室的内部安装成搁架方式，这种规划的是富有弹性的，用户能够移去架子来装备合适的等离子体的蚀刻办法：反响性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction plasma）。