技术

关于光刻机的基本使用介绍

  光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光体系,光刻体系等,是制造芯片的核心装备。它采用相似照片冲印的技术,把掩膜版上的精密图形经过光线的曝光印制到硅片上。




  使用模版去除晶圆外表的保护膜。将晶圆浸泡在堕落剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后构成电路。用纯水洗净残留在晶圆外表的杂质。其间曝光机就是使用紫外线经过模版去除晶圆外表的保护膜的设备。


  一片晶圆能够制作数十个集成电路,依据模版曝光机分为两种:模版和晶圆大小相同,模版不动。模版和集成电路大小相同,模版随曝光机聚集部分移动。其间模版随曝光机移动的方法。


  模版相对曝光机中心位置不变,一直使用聚集镜头中心部分能得到更高的精度。曝光机是出产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只要少数厂家掌握。因而曝光机价格昂贵,通常在 3 千万至 5 亿美元。